एचपीएमसी वाईबी 515एम

EipponCell HPMC YB 515M, विशेष रूप से मानक टाइल चिपकने वाले अनुप्रयोगों के लिए डिज़ाइन किया गया है, इसमें निम्नलिखित गुण हैं:

टाइल चिपकने वाले के खुले समय पर प्रभाव

​जब लेटेक्स पाउडर और सेलूलोज़ ईथर एचपीएमसी गीले मोर्टार में मौजूद होते हैं, तो आरडीपी पाउडर सीमेंट हाइड्रेशन उत्पाद के साथ एक मजबूत बाध्यकारी ऊर्जा प्रदर्शित करता है, जबकि सेलूलोज़ ईथर मुख्य रूप से अंतरालीय तरल पदार्थ को प्रभावित करता है, जिससे मोर्टार की चिपचिपाहट और निर्धारित समय प्रभावित होता है।

आरडीपी पाउडर सीमेंट हाइड्रेशन उत्पादों के प्रति बढ़ा हुआ लगाव प्रदर्शित करता है, जबकि सेल्यूलोज ईथर मुख्य रूप से अंतरालीय तरल पदार्थ को प्रभावित करता है, जो मोर्टार की चिपचिपाहट और निर्धारित समय को प्रभावित करता है।

गीले मोर्टार में लेटेक्स पाउडर और सेल्यूलोसिक ईथर एचपीएमसी का सह-अस्तित्व मोर्टार के गुणों को प्रभावित करता है, आरडीपी पाउडर में बड़ी बाध्यकारी ऊर्जा होती है और सेल्यूलोसिक ईथर अंतरालीय तरल पदार्थ में अपनी उपस्थिति के माध्यम से चिपचिपाहट और सेटिंग समय को प्रभावित करता है।

टाइल चिपकने की खींच-बाहर ताकत पर प्रभाव

मोर्टार में सेल्युलोज ईथर न केवल लाभकारी गुण प्रदान करता है, बल्कि मूल खनिज चरण के बजाय हाइड्रेटेड उत्पाद पर सोखकर सीमेंट की जलयोजन गतिशीलता में भी देरी करता है।यह मंदता प्रभाव सेलूलोज़ ईथर के कारण बढ़ी हुई चिपचिपाहट के कारण छिद्र समाधान में आयनों की कम गतिशीलता के कारण होता है।

सीमेंट प्रणालियों में सेलूलोज़ ईथर की उपस्थिति मूल खनिज चरण के बजाय हाइड्रेटेड उत्पाद को सोखने से हाइड्रेशन कैनेटीक्स को धीमा कर देती है, जबकि छिद्र समाधान की चिपचिपाहट भी बढ़ जाती है, जिससे आयन गतिशीलता कम हो जाती है और हाइड्रेशन प्रक्रिया धीमी हो जाती है।

सीमेंट जलयोजन पर सेलूलोज़ ईथर का मंदता प्रभाव मुख्य रूप से हाइड्रेटेड उत्पाद पर इसके सोखने और छिद्र समाधान की चिपचिपाहट में बाद में वृद्धि से प्राप्त होता है, जो आयन गतिशीलता में बाधा डालता है और समग्र जलयोजन गतिशीलता में देरी करता है।