एचपीएमसी एफ 50 हाइड्रोक्सीप्रोपाइल मिथाइल सेलुलोज (एचपीएमसी) | |
भौतिक विश्लेषण | |
उपस्थिति | सफ़ेद से थोड़ा मटमैला सफ़ेद रेशेदार या दानेदार पाउडर। |
ए से ई तक की पहचान | अनुरूप |
समाधान उपस्थिति | अनुरूप |
मेथोक्सी | 27.0-30.0% |
हाइड्रोक्सीप्रोपॉक्सी | 4.0-7.5% |
सूखने पर नुकसान | 5.0% अधिकतम |
प्रज्वलन पर छाछ | 1.5% अधिकतम |
pH | 5.0-8.0 |
स्पष्ट चिपचिपाहट | 40-60cps |
कण आकार | न्यूनतम.98% 100 जाल से गुजरते हैं |
हैवी मेटल्स | |
भारी धातु | ≤10पीपीएम |
हरताल | ≤3पीपीएम |
नेतृत्व करना | ≤3पीपीएम |
बुध | ≤1पीपीएम |
कैडमियम | ≤1पीपीएम |
सूक्ष्म जीवाणु | |
कुल प्लेट गिनती | ≤1000cfu/g |
ख़मीर और फफूंदी | ≤100cfu/g |
कोली रूप | अनुपस्थित/जी |
साल्मोनेला | अनुपस्थित/जी |
EipponCell HPMC F 50 पॉलीविनाइल क्लोराइड (पीवीसी) उद्योग में उपयोग किया जाने वाला एक महत्वपूर्ण फैलाव है।विनाइल क्लोराइड के निलंबन पोलीमराइजेशन के दौरान, यह कई कार्य करता है।सबसे पहले, यह विनाइल क्लोराइड मोनोमर (वीसीएम) और पानी के बीच अंतरापृष्ठीय तनाव को कम करता है, जिससे जलीय माध्यम में वीसीएम के एक समान और स्थिर फैलाव की सुविधा मिलती है।दूसरे, यह पोलीमराइजेशन के प्रारंभिक चरण में वीसीएम बूंदों के विलय को रोकता है।अंत में, यह प्रक्रिया के मध्यवर्ती और बाद के चरणों में बहुलक कणों के बीच सहसंयोजन को रोकता है।सस्पेंशन पोलीमराइजेशन सिस्टम में, EipponCell HPMC F 50 VCM को फैलाने और स्थिरता सुनिश्चित करने की दोहरी भूमिका निभाता है।
पोलीमराइजेशन की कम डिग्री के साथ पॉलीविनाइल क्लोराइड (पीवीसी) राल आमतौर पर 800 से नीचे की पोलीमराइजेशन डिग्री के साथ पीवीसी राल को संदर्भित करता है। इस प्रकार का राल, इसके कम आणविक भार, उच्च स्पष्ट घनत्व, अच्छी पिघल तरलता, कम प्लास्टिकिंग समय और आसानी के कारण होता है। प्रसंस्करण में, शीट निर्माण, इंजेक्शन मोल्डिंग पाइप फिटिंग, ब्लो मोल्डिंग, और संशोधित रेजिन (जैसे विनाइल क्लोराइड राल के गहरे क्लोरीनीकरण के माध्यम से क्लोरीनयुक्त पॉलीविनाइल क्लोराइड) के उत्पादन में व्यापक अनुप्रयोग मिलते हैं।हालाँकि, कम डिग्री के पोलीमराइजेशन के साथ पीवीसी राल कम सरंध्रता और कॉम्पैक्ट राल कणों को प्रदर्शित करता है।डिस्पर्सेंट्स और विनाइल क्लोराइड के ग्राफ्ट कोपोलिमराइजेशन द्वारा बनाई गई कण फिल्म अपेक्षाकृत मोटी होती है, जो राल के प्रसंस्करण प्रदर्शन और उसके बाद के संशोधन को प्रभावित कर सकती है।
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